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李皓深谙打人要打脸的道理，只可惜这回他们似乎是没脸来，重新又换了一批人。
虽然依旧那般的傲慢，年纪也是一般的大，但总归是差了点感觉。
正当李皓都不想搭理他们的时候，他们却又主动上门来找虐。
因为在光刻机研究卡壳在193nm的这些年里，日本和阿斯麦公司选择了不同的路线。
日本人坚持以往思路，继续迭代技术，去研发新的光源，坚持在传统干式微影技术上一条路走到底。
而阿斯麦则因为加入了美国牵头的EUV联盟，就主张使用极紫外技术生产设备。
从后面的发展情况来看，EUV技术无疑更先进，日本在选择传统派阵营时，其实就已经输了。
但事实上，日本人也并非不愿意尝试极紫外光技术，而是被美国别有用心的排除在了门外。
毕竟即使它们再怎么愿意当儿子，也架不住人家的忌惮。
就像是之前的广岛协议一般，美国是不会允许有人来实际威胁他们的地位的，即使是干儿子也不行。
只不过在现如今的阶段，因为技术储备的原因，双方暂时都没有达成目标。
不过相比于极紫外光技术依旧存在的很多技术难关，日本人这里的157nm F2激光的研发却已经有了实质性进展。
所以在这个时候，对于中国人弄出来的浸润式光刻机，就让他们极为排斥。
因为它们能从现有公布出来的数据中看出来，浸润式光刻机的后续开发空间巨大。
只需要调整光刻胶上面的液体密度，就能将193nm的光波长折射成需要的精度。
而且最重要的一点，这种浸入式方案属于小改进大效果，有着以往的产品经验，稳定性和开发速度必然都不是它们的新产品能比的。
要知道它们为此可是投入了重资，一旦先机被抢走了，那投进去的钱不就全打了水漂。
反观阿斯麦这里，见到了这台光刻机之后，反应也是非常强烈。
随即就找到了林奔坚询问情况，原来就在今年的早些时候，他们就已经和林奔坚取得了联系，并最终同意了对林奔坚给的浸润式方案进行实验。
结果他们这还在实验中的方案，现在却见这里已经拿出了成品，当然就想要问清楚。
林奔坚对此也是一头雾水，好在他脑子里面还有理智，没有选择直接跳出来。
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