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第63章 光刻机和芯片的突破 (第1/2页)

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在未来之星科技公司的研发中心,一片紧张而兴奋的氛围弥漫在空气中。林萧站在巨大的屏幕前,展示着最新的研发成果。

“各位同事,经过我们夜以继日的努力,终于攻克了光刻机的关键技术难题。我们采用了全新的极紫外光刻(EUV)技术,结合先进的多重曝光和刻蚀工艺,成功实现了100皮米的芯片制程。这种先进的芯片不仅在性能上有了巨大提升,更在应用场景上开辟了全新的领域。”林萧的声音充满了自豪和激动。

在医疗领域,这种芯片被应用于高精度的医疗影像设备。以往难以检测到的微小病变,如今在新芯片的强大运算能力支持下,能够清晰地呈现在医生眼前,大大提高了疾病的早期诊断率。例如,在癌症筛查中,新芯片驱动的影像设备可以捕捉到极其细微的肿瘤迹象,为患者争取到宝贵的治疗时间。

在智能交通

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